ซินเป็นสารประกอบของซิลิกอนและไฮโดรเจนและเป็นคำทั่วไปสำหรับชุดของสารประกอบ ไซเลนส่วนใหญ่รวมถึง monosilane (SIH4), disilane (SI2H6) และสารประกอบไฮโดรเจนซิลิกอนระดับสูงกว่าบางชนิดด้วยสูตรทั่วไป SINH2N+2 อย่างไรก็ตามในการผลิตจริงเรามักจะอ้างถึง monosilane (สูตรเคมี SIH4) เป็น "ไซเลน"

เกรดอิเล็กทรอนิกส์ก๊าซซินส่วนใหญ่ได้มาจากการกลั่นปฏิกิริยาต่าง ๆ และการทำให้บริสุทธิ์ของผงซิลิกอน, ไฮโดรเจน, ซิลิคอนเตตระคลอไรด์, ตัวเร่งปฏิกิริยา ฯลฯ ไซเลนที่มีความบริสุทธิ์ 3N ถึง 4N เรียกว่าซินเกรดอุตสาหกรรมและไซเลนที่มีความบริสุทธิ์มากกว่า 6N เรียกว่าก๊าซอิเล็กทรอนิกส์เกรด

เป็นแหล่งก๊าซสำหรับการพกพาส่วนประกอบซิลิคอนก๊าซซินได้กลายเป็นก๊าซพิเศษที่สำคัญที่ไม่สามารถแทนที่ได้ด้วยแหล่งซิลิกอนอื่น ๆ อีกมากมายเนื่องจากมีความบริสุทธิ์และความสามารถในการควบคุมที่ดี Monosilane สร้างซิลิคอนผลึกผ่านปฏิกิริยาไพโรไลซิสซึ่งปัจจุบันเป็นหนึ่งในวิธีการสำหรับการผลิตขนาดใหญ่ของซิลิกอน monocrystalline เม็ดเล็กและซิลิกอน polycrystalline ในโลก

ลักษณะไซเลน

Silane (SIH4)เป็นก๊าซที่ไม่มีสีที่ทำปฏิกิริยากับอากาศและทำให้เกิดการหายใจไม่ออก คำพ้องความหมายของมันคือซิลิกอนไฮไดรด์ สูตรทางเคมีของไซเลนคือ SIH4 และเนื้อหาของมันสูงถึง 99.99% ที่อุณหภูมิห้องและความดันไซเลนเป็นก๊าซพิษที่มีกลิ่นเหม็น จุดหลอมเหลวของไซเลนคือ -185 ℃และจุดเดือดคือ -112 ℃ ที่อุณหภูมิห้องไซเลนมีความเสถียร แต่เมื่อความร้อนถึง 400 ℃มันจะสลายตัวเป็นซิลิกอนและไฮโดรเจนของก๊าซ ไซเลนไวไฟและระเบิดและจะเผาไหม้อย่างระเบิดในอากาศหรือก๊าซฮาโลเจน

ฟิลด์แอปพลิเคชัน

Silane มีการใช้งานที่หลากหลาย นอกเหนือจากการเป็นวิธีที่มีประสิทธิภาพมากที่สุดในการยึดโมเลกุลซิลิกอนเข้ากับพื้นผิวของเซลล์ในระหว่างการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์มันยังถูกใช้อย่างกว้างขวางในโรงงานผลิตเช่นเซมิคอนดักเตอร์จอแสดงผลแผงแบนและกระจกเคลือบ

ซินเป็นแหล่งกำเนิดซิลิกอนสำหรับกระบวนการสะสมไอสารเคมีเช่นซิลิกอนคริสตัลเดี่ยว, พลอลิกซิลลิคอน epitaxial เวเฟอร์, ซิลิกอนไดออกไซด์, ซิลิกอนไนไตรด์และแก้วฟอสโฟลิคเตอร์ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

ในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมาการใช้งานไฮเทคของ silanes ยังคงเกิดขึ้นใหม่รวมถึงการผลิตเซรามิกขั้นสูงวัสดุคอมโพสิตวัสดุที่ใช้งานได้วัสดุชีวภาพวัสดุพลังงานสูง ฯลฯ กลายเป็นพื้นฐานของเทคโนโลยีใหม่วัสดุใหม่และอุปกรณ์ใหม่