ก๊าซ CF4 ความบริสุทธิ์สูงสำหรับกระบวนการกัดเซาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ สินค้าใหม่จากจีน

เราเชื่อมั่นในสิ่งต่อไปนี้: นวัตกรรมคือหัวใจและจิตวิญญาณของเรา คุณภาพที่ดีคือชีวิตของเรา ความต้องการของลูกค้าคือพระเจ้าของเรา สำหรับก๊าซ CF4 บริสุทธิ์สูงจากจีนสำหรับอุตสาหกรรมการกัดเซาะเซมิคอนดักเตอร์ เราพยายามอย่างจริงใจที่จะมอบบริการที่ดีที่สุดแก่ลูกค้าและนักธุรกิจทุกท่าน
เราเชื่อมั่นในสิ่งเหล่านี้: นวัตกรรมคือหัวใจและจิตวิญญาณของเรา คุณภาพที่ดีคือชีวิตของเรา ความต้องการของลูกค้าคือพระเจ้าของเราก๊าซทำความเย็น CF4 ของจีน, ถังแก๊สปัจจุบันการแข่งขันในสาขานี้ดุเดือดมาก แต่เรายังคงมุ่งมั่นที่จะนำเสนอคุณภาพที่ดีที่สุด ราคาที่สมเหตุสมผล และบริการที่เอาใจใส่ที่สุด เพื่อให้เกิดผลประโยชน์ร่วมกันทั้งสองฝ่าย สโลแกนของเราคือ “เปลี่ยนแปลงไปในทางที่ดีขึ้น!” ซึ่งหมายความว่า “โลกที่ดีกว่าอยู่ตรงหน้าเราแล้ว มาสนุกกับมันกันเถอะ!” เปลี่ยนแปลงไปในทางที่ดีขึ้น! คุณพร้อมหรือยัง?

พารามิเตอร์ทางเทคนิค

คาร์บอนเตตระฟลูออไรด์เป็นไฮโดรคาร์บอนที่มีฮาโลเจนเป็นองค์ประกอบ มีสูตรเคมี CF4 อาจจัดเป็นไฮโดรคาร์บอนที่มีฮาโลเจน มีเทนที่มีฮาโลเจน เพอร์ฟลูออโรคาร์บอน หรือสารประกอบอนินทรีย์ก็ได้ คาร์บอนเตตระฟลูออไรด์เป็นก๊าซไม่มีสี ไม่มีกลิ่น ไม่ละลายในน้ำ แต่ละลายในเบนซีนและคลอโรฟอร์ม มีความเสถียรภายใต้อุณหภูมิและความดันปกติ ควรหลีกเลี่ยงสารออกซิไดซ์รุนแรง วัสดุไวไฟ หรือวัสดุที่ติดไฟได้ เป็นก๊าซที่ไม่ติดไฟ เมื่อสัมผัสกับความร้อนสูง ความดันภายในภาชนะจะเพิ่มขึ้น และอาจเกิดการแตกร้าวและระเบิดได้ มีความเสถียรทางเคมีและไม่ติดไฟ สามารถใช้งานได้ที่อุณหภูมิห้องโดยใช้สารละลายแอมโมเนีย-โซเดียมเท่านั้น คาร์บอนเตตระฟลูออไรด์เป็นก๊าซที่ก่อให้เกิดปรากฏการณ์เรือนกระจก มีความเสถียรสูง สามารถคงอยู่ในชั้นบรรยากาศได้นาน และเป็นก๊าซเรือนกระจกที่มีฤทธิ์รุนแรงมาก คาร์บอนเตตระฟลูออไรด์ถูกนำมาใช้ในกระบวนการกัดด้วยพลาสมาของวงจรรวมต่างๆ นอกจากนี้ยังใช้เป็นก๊าซเลเซอร์ และใช้ในสารทำความเย็นอุณหภูมิต่ำ ตัวทำละลาย สารหล่อลื่น วัสดุฉนวน และสารหล่อเย็นสำหรับเครื่องตรวจจับอินฟราเรด เป็นก๊าซกัดผิวพลาสมาที่ใช้มากที่สุดในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เป็นส่วนผสมของก๊าซเตตระฟลูออโรมีเทนบริสุทธิ์สูงและออกซิเจนบริสุทธิ์สูง สามารถใช้ได้อย่างกว้างขวางในซิลิคอน ซิลิคอนไดออกไซด์ ซิลิคอนไนไตรด์ และกระจกฟอสโฟซิลิเกต การกัดผิววัสดุฟิล์มบาง เช่น ทังสเตนและทังสเตนยังใช้กันอย่างแพร่หลายในการทำความสะอาดพื้นผิวของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ การผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ เทคโนโลยีเลเซอร์ การทำความเย็นอุณหภูมิต่ำ การตรวจสอบการรั่วไหล และสารซักฟอกในการผลิตวงจรพิมพ์ ใช้เป็นสารทำความเย็นอุณหภูมิต่ำและเทคโนโลยีการกัดผิวพลาสมาแบบแห้งสำหรับวงจรรวม ข้อควรระวังในการจัดเก็บ: เก็บในคลังก๊าซที่ไม่ติดไฟ เย็น และมีอากาศถ่ายเทสะดวก เก็บให้ห่างจากไฟและแหล่งความร้อน อุณหภูมิในการจัดเก็บไม่ควรเกิน 30°C ควรจัดเก็บแยกจากวัสดุที่ติดไฟง่ายและสารออกซิไดซ์ และควรหลีกเลี่ยงการจัดเก็บรวมกัน บริเวณที่จัดเก็บควรติดตั้งอุปกรณ์สำหรับรับมือกับการรั่วไหลในกรณีฉุกเฉิน

แอปพลิเคชัน:

① สารทำความเย็น:

เตตระฟลูออโรมีเทนบางครั้งถูกนำมาใช้เป็นสารทำความเย็นที่อุณหภูมิต่ำ

② การแกะสลัก:

ใช้ในการผลิตไมโครชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ โดยอาจใช้เดี่ยวๆ หรือใช้ร่วมกับออกซิเจน ในฐานะสารกัดกร่อนพลาสมาสำหรับซิลิคอน ซิลิคอนไดออกไซด์ และซิลิคอนไนไตรด์

บรรจุภัณฑ์ปกติ:

ข้อได้เปรียบ:

①ความบริสุทธิ์สูง โรงงานทันสมัย

②ผู้ผลิตที่ได้รับการรับรองมาตรฐาน ISO;

③จัดส่งรวดเร็ว;

④ระบบวิเคราะห์ออนไลน์เพื่อควบคุมคุณภาพในทุกขั้นตอน

⑤ มีข้อกำหนดที่เข้มงวดและกระบวนการที่พิถีพิถันในการจัดการกระบอกสูบก่อนการบรรจุ;เราเชื่อมั่นในสิ่งต่อไปนี้: นวัตกรรมคือหัวใจและจิตวิญญาณของเรา คุณภาพที่ดีคือชีวิตของเรา ความต้องการของลูกค้าคือพระเจ้าของเรา สำหรับก๊าซ CF4 บริสุทธิ์สูงจากจีนสำหรับอุตสาหกรรมการกัดเซาะเซมิคอนดักเตอร์ เราพยายามอย่างจริงใจที่จะมอบบริการที่ดีที่สุดแก่ลูกค้าและนักธุรกิจทุกท่าน
สินค้าใหม่ก๊าซทำความเย็น CF4 ของจีน, ถังแก๊สปัจจุบันการแข่งขันในสาขานี้ดุเดือดมาก แต่เรายังคงมุ่งมั่นที่จะนำเสนอคุณภาพที่ดีที่สุด ราคาที่สมเหตุสมผล และบริการที่เอาใจใส่ที่สุด เพื่อให้เกิดผลประโยชน์ร่วมกันทั้งสองฝ่าย สโลแกนของเราคือ “เปลี่ยนแปลงไปในทางที่ดีขึ้น!” ซึ่งหมายความว่า “โลกที่ดีกว่าอยู่ตรงหน้าเราแล้ว มาสนุกกับมันกันเถอะ!” เปลี่ยนแปลงไปในทางที่ดีขึ้น! คุณพร้อมหรือยัง?