รายการราคาถูกสำหรับก๊าซพิเศษจากจีน ก๊าซคาร์บอนเตตระฟลูออไรด์/เตตระฟลูออโรมีเทน CF4 เกรดอิเล็กตรอน/เซมิคอนดักเตอร์ ความบริสุทธิ์ 99.999% ราคา

“ความจริงใจ นวัตกรรม ความเข้มงวด และประสิทธิภาพ” อาจเป็นแนวคิดที่ยั่งยืนขององค์กรของเราในระยะยาว เพื่อสร้างความร่วมมือกับลูกค้าเพื่อผลประโยชน์ร่วมกัน สำหรับราคาก๊าซพิเศษจากจีน เช่น ก๊าซคาร์บอนเตตระฟลูออไรด์/เตตระฟลูออโรมีเทน CF4 บริสุทธิ์ 99.999% เกรดอิเล็กตรอน/เซมิคอนดักเตอร์ ในฐานะบริษัทรุ่นใหม่ที่กำลังเติบโต เราอาจไม่ใช่บริษัทที่ดีที่สุด แต่เราพยายามอย่างเต็มที่ที่จะเป็นพันธมิตรที่ยอดเยี่ยมของคุณ
“ความจริงใจ นวัตกรรม ความเข้มงวด และประสิทธิภาพ” คือแนวคิดที่ยั่งยืนขององค์กรของเราในระยะยาว เพื่อสร้างความร่วมมือและผลประโยชน์ร่วมกันกับลูกค้าก๊าซ CF4 และก๊าซ CF4 ของจีน“สร้างคุณค่า บริการลูกค้า!” คือเป้าหมายที่เรามุ่งมั่น เราหวังเป็นอย่างยิ่งว่าลูกค้าทุกท่านจะสร้างความร่วมมือระยะยาวและเป็นประโยชน์ร่วมกันกับเรา หากท่านต้องการทราบรายละเอียดเพิ่มเติมเกี่ยวกับบริษัทของเรา โปรดติดต่อเราได้เลย!

พารามิเตอร์ทางเทคนิค

คาร์บอนเตตระฟลูออไรด์เป็นไฮโดรคาร์บอนที่มีฮาโลเจนเป็นองค์ประกอบ มีสูตรเคมี CF4 อาจจัดเป็นไฮโดรคาร์บอนที่มีฮาโลเจน มีเทนที่มีฮาโลเจน เพอร์ฟลูออโรคาร์บอน หรือสารประกอบอนินทรีย์ก็ได้ คาร์บอนเตตระฟลูออไรด์เป็นก๊าซไม่มีสี ไม่มีกลิ่น ไม่ละลายในน้ำ แต่ละลายในเบนซีนและคลอโรฟอร์ม มีความเสถียรภายใต้อุณหภูมิและความดันปกติ ควรหลีกเลี่ยงสารออกซิไดซ์รุนแรง วัสดุไวไฟ หรือวัสดุที่ติดไฟได้ เป็นก๊าซที่ไม่ติดไฟ เมื่อสัมผัสกับความร้อนสูง ความดันภายในภาชนะจะเพิ่มขึ้น และอาจเกิดการแตกร้าวและระเบิดได้ มีความเสถียรทางเคมีและไม่ติดไฟ สามารถใช้งานได้ที่อุณหภูมิห้องโดยใช้สารละลายแอมโมเนีย-โซเดียมเท่านั้น คาร์บอนเตตระฟลูออไรด์เป็นก๊าซที่ก่อให้เกิดปรากฏการณ์เรือนกระจก มีความเสถียรสูง สามารถคงอยู่ในชั้นบรรยากาศได้นาน และเป็นก๊าซเรือนกระจกที่มีฤทธิ์รุนแรงมาก คาร์บอนเตตระฟลูออไรด์ถูกนำมาใช้ในกระบวนการกัดด้วยพลาสมาของวงจรรวมต่างๆ นอกจากนี้ยังใช้เป็นก๊าซเลเซอร์ และใช้ในสารทำความเย็นอุณหภูมิต่ำ ตัวทำละลาย สารหล่อลื่น วัสดุฉนวน และสารหล่อเย็นสำหรับเครื่องตรวจจับอินฟราเรด เป็นก๊าซกัดผิวพลาสมาที่ใช้มากที่สุดในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เป็นส่วนผสมของก๊าซเตตระฟลูออโรมีเทนบริสุทธิ์สูงและออกซิเจนบริสุทธิ์สูง สามารถใช้ได้อย่างกว้างขวางในซิลิคอน ซิลิคอนไดออกไซด์ ซิลิคอนไนไตรด์ และกระจกฟอสโฟซิลิเกต การกัดผิววัสดุฟิล์มบาง เช่น ทังสเตนและทังสเตนยังใช้กันอย่างแพร่หลายในการทำความสะอาดพื้นผิวของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ การผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ เทคโนโลยีเลเซอร์ การทำความเย็นอุณหภูมิต่ำ การตรวจสอบการรั่วไหล และสารซักฟอกในการผลิตวงจรพิมพ์ ใช้เป็นสารทำความเย็นอุณหภูมิต่ำและเทคโนโลยีการกัดผิวพลาสมาแบบแห้งสำหรับวงจรรวม ข้อควรระวังในการจัดเก็บ: เก็บในคลังก๊าซที่ไม่ติดไฟ เย็น และมีอากาศถ่ายเทสะดวก เก็บให้ห่างจากไฟและแหล่งความร้อน อุณหภูมิในการจัดเก็บไม่ควรเกิน 30°C ควรจัดเก็บแยกจากวัสดุที่ติดไฟง่ายและสารออกซิไดซ์ และควรหลีกเลี่ยงการจัดเก็บรวมกัน บริเวณที่จัดเก็บควรติดตั้งอุปกรณ์สำหรับรับมือกับการรั่วไหลในกรณีฉุกเฉิน

แอปพลิเคชัน:

① สารทำความเย็น:

เตตระฟลูออโรมีเทนบางครั้งถูกนำมาใช้เป็นสารทำความเย็นที่อุณหภูมิต่ำ

② การแกะสลัก:

ใช้ในการผลิตไมโครชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ โดยอาจใช้เดี่ยวๆ หรือใช้ร่วมกับออกซิเจน ในฐานะสารกัดกร่อนพลาสมาสำหรับซิลิคอน ซิลิคอนไดออกไซด์ และซิลิคอนไนไตรด์

บรรจุภัณฑ์ปกติ:

ข้อได้เปรียบ:

①ความบริสุทธิ์สูง โรงงานทันสมัย

②ผู้ผลิตที่ได้รับการรับรองมาตรฐาน ISO;

③จัดส่งรวดเร็ว;

④ระบบวิเคราะห์ออนไลน์เพื่อควบคุมคุณภาพในทุกขั้นตอน

⑤ มีข้อกำหนดที่เข้มงวดและกระบวนการที่พิถีพิถันในการจัดการกระบอกสูบก่อนการบรรจุ;